项目名称 | 高真空电阻蒸发镀膜设备 | 项目编号 | GY202401949 |
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公告开始日期 | 2024-06-12 15:04:13 | 公告截止日期 | 2024-06-17 16:00:00 |
采购单位 | 山东大学 | 付款方式 | 货到验收合格后付款 |
联系人 | 联系电话 | ||
签约时间要求 | 到货时间要求 | 签订合同后60天 | |
预算总价 | 300000.0 | ||
收货地址 | 山东大学 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
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采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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高真空电阻蒸发镀膜设备 | 1 | 台 | 电气物理设备 |
品牌 | 北京微纳真空技术有限公司 |
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型号 | VZZ-400 |
技术参数及配置要求 | 1) 真空腔室: Φ400×H500mm;2) 真空极限:优于 2.5×10-5Pa;3) 抽速:分子泵完全启动,抽至 4.0×10-4Pa≤15min;4) 基片台尺寸:最大可镀基片尺寸/面积: 112×112mm,该范围内可装卡 15~25mm 方形 ITO/FTO 玻璃/硅片 16~25 片;样品台配有气动挡板,磁流体密封;样品台旋转:旋转速度 0-25 转/分连续可调,磁流体密封,光控定位,设定在前门中心位置方便取样;样品掩膜:提供一块掩膜板(掩膜图案客户提供);样品台水冷: 采用基片台背板通冷却循环水强制水冷;5) 蒸发源及电源:安装 4 组蒸发源,其中 3 组舟式/挂丝式金属蒸发源, 1 组束源炉式有机蒸发源;金属用蒸发电源: 2.2Kw 1 台;有机源用蒸发电源: 1 组温控型电源,最高加热温度 600℃;6) 膜厚监控:采用薄膜沉积监控仪在线监测蒸镀速率、自控膜厚;7) 控制方式: PLC 手自动控制,触摸屏操作;8) 特别定制:掩膜板一块 |
售后服务 | 服务网点:当地;质保期限:2年;响应期限:报修后24小时; |
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